生产良率达60%以上！台积电2nm稳了 明年大规模生产

12月9日消息，生产据外媒报道称，良率台积电计划明年开始量产2nm芯片，达上电n大规目前该公司已在位于新竹的台积台积电工厂进行试产，结果显示其2nm制程的明年模生良率已达到 60% 以上。

这一数据还有较大提升空间，生产外媒称，良率通常相应芯片良率需要达到70%或更高才能进入大规模量产阶段（消息称三星的达上电n大规 2nm 工艺良率仅在10%-20%之间）。

以目前 60% 的台积试产良率，台积电明年才能令其 2nm 工艺进入大规模生产阶段，明年模生但这个进度已经在全球范围遥遥领先所有竞争对手。生产

2nm晶圆价格将达3万美元，良率以iPhone AP为例，达上电n大规将自N3的台积50美元上涨至N2的85美元，涨幅达70％，明年模生为节省成本，矽堆叠技术未来将更普遍，提升主芯片速度、功耗。

目前英伟达、AMD等都是2nm的客户，不过最先使用的还是苹果，现明确产品规划的是苹果iPhone 18之A20芯片首度采用，并搭配SoIC先进封装。

值得一提的是，台积电前董事长曾表示，华为不可能追上台积电，曾引起轩然大波，不过从先进制程这块他们确实优势太明显。

(责任编辑：综合)